针对不同使用环境的 化学过滤器

在半导体生产过程中，不仅微小的颗粒甚至是极其微量的化学污染也会降低产品的合格率。

因此，半导企业通过安装高效率的化学过滤器，实现洁净的生产环境。

我司生产的，能够有效地去除半导体工厂中的AMCs物质。

AMCs？

AMCsAirbome molecular contamination ） 是半导体生产当中各种化学污染物质的统称（有机，碱性，酸性气体）。

特点：

1．去除效率高达90%以上

2．使用寿命长

3．精良的制造技术，安装方便

4．一条龙服务（从附着剂加添，产品组装到安装）

5．可以按照客户的要求设计过滤器

适用范围：

1．半导体，LCD等超精密制造工艺

2．恶臭以及有害气体容易产生的地方

3．医院，博物馆公共场所等对空气环境要求高的场所

主要产品：

1．● CAFILDEX® PL系列

规格	CAFILDEX PL系列
大小  （W*L*D/mm）	610*610*150T （接受非标定做）
效率（%）	< 90
速度  （m/s）	~ 2.5
差压（mmAq）	~ 15.0
媒介	IER, IAC, IA,吸附剂
框架	AL, GI, SUS
适用对象	FFU, EFU, MAU, RAU
目标气体	NH3, tAcid, VOCs

2．● CAFILDEX® TY系列

规格	CAFILDEX TY系列
大小  （W*L*D/mm）	610*610*450T （接受非标定做）
效率（%）	< 90
速度  （m/s）	~ 2.5
差压（mmAq）	~ 15.0
媒介	IER, IAC, IA,吸附剂
框架	AL, GI, SUS
适用对象	MAU, RAU
目标气体	NH3, tAcid, VOCs

3．● CAFILDEX®  CE 系列

规格	CAFILDEX® CE系列
大小  （W*L*D/mm）	572*1167*55T （接受非标定做）
效率（%）	< 90
速度  （m/s）	~ 0.45
差压（mmAq）	~ 3.0
媒介	IER, IAC, IA, 吸附剂
框架	AL, GI, SUS
适用对象	FFU, EFU, MAU, RAU
目标气体	NH3, tAcid, VOCs

4．● CAFILDEX® BT 系列

规格	CAFILDEX BT系列
大小  （W*L*D/mm）	640*640*470 （接受非标定做）
效率（%）	< 90
速度 （m/s）	~ 0.45
差压（mmAq）	~ 3.0
媒介	IER, IAC, IA,吸附剂
框架	AL, GI, SUS
适用对象	FFU
目标气体	NH3, tAcid, VOCs

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● CAFILDEX® SW系列

规格	CAFILDEX SW系列
大小 （W*L*D/mm）	610*610*200T （接受非标定做）
效率 （%）	< 90
速度  （m/s）	~ 2.5
差压（mmAq）	~ 15
媒介	IER, IAC, IA,吸附剂
框架	AL, GI, SUS
适用对象	FFU, EFU, MAU, RAU
目标气体	NH3, tAcid, VOCs